技術詳細

株式会社ディーピーエス

所在地

京都市西京区御陵大原1-39京大桂ベンチャープラザ南館2215

ホームページ

http://www.dps-inc.co.jp/

シリカ素材をナノ細孔を含む3次元構造に構築し、イオン化した物質を高効率に吸着できる技術

株式会社ディーピーエス
非金属製造・加工
公開日
2021/09/07
最終更新日
2021/09/07

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詳細説明

概要

DualPore™技術は、従来技術・製品ではできないppbレベルの低濃度まで残留金属を回収することが出来ます。従来技術・製品では、大型の回収装置が必要となるが、DualPore™技術では、汎用の水処理用ハウジングを設置するだけで設備投資を必要としない。

技術の特長

シリカ素材を、ナノ細孔を含む3次元構造に構築し、イオン化した物質を高効率で補足するための表面処理を施す、DualPore™ 技術。

これまでの課題

ppbレベルの低濃度まで残留金属を回収することが出来ない。従来技術・製品では、大型の回収装置が必要となる。

技術適用による効果

独自のDualPore™技術を駆使し、微量金属・物質の吸着・分離・回収を高性能かつ高効率に実現する製品を開発・提供することで、リサイクル・高純度化のニーズにお応えするとともに地球規模の課題解決に貢献。

提供方法

ライセンス、素材、製品、ソリューション。

実績

リサイクル用金属(メタル)スカベンジャー、高純度化用金属(メタル)スカベンジャー、分析・分取用液体クロマトグラフィーカラム、合成用不均一系金属触媒を取扱い中。